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等离子废气处理设备10年经验



VOC废气处理设备 反应塔内装填特制的固态填料,填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层,与通过特制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触,并在多介质催化剂的催化作用下,恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围:适用范围广,尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气,对疏水性污染物质有很好的去除率。优点:占地小,投资低,运行成本低;管理方便,即开即用。缺点:耐冲击负荷,不易污染物浓度及温度变化影响,需消耗一定量的药剂。 低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态,当外加电压达到气体的着火电压时,气体分子被击穿,产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高,但重粒子温度很低,整个体系呈现低温状态,所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用,使污染物分子在极短的时间内发生分解,并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。




光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。



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印刷废气处理设备,化学洗涤除臭设备适用于污水处理厂、制药厂、化工厂等具有碱性或酸性且浓度比较高的尾气治理。活性炭除臭设备采取切线出风、环状过滤、中间进风、上不加料、下部卸料的结构,克服了传统的活性炭过滤器过滤阻力大、面积小、占地面积大、设备投资高、更换活性炭困难等缺陷,使活性炭过滤设备结构设计近乎于完美。 印刷废气处理设备 ,但使用环保废气处理净化设备后,可有效去除油污颗粒、油雾颗粒等厨房废气,对空气净化起到一定的作用。加工车间包括油炸食品加工车间、油炸烹饪食品加工车间等。加工车间的环境是烟熏的,但如果操作环境过于浑浊,影响经营者的加工,则必须使用无害环境的废气处理和净化设备。 废气处理设备用于处理中低浓度的有机废气(VOC)。它的工作原理是在高温下将可燃废气氧化成对应的氧化物和水,从而净化废气,并回收废气分解时所释放出来的热量,废气分解效率达到99%以上,热回收效率达到95%以上。RTO废气处理设备主体结构由燃烧室、陶瓷填料床和切换阀等组成。 涂装喷漆废气主要为挥发性有机物VOCs、苯系物、颗粒物、恶臭气体等污染因子,主要汽车制造、家具行业、船舶制造、集装箱制造、金属制品、机械设备、铁路制造等表面处理时产生的。废气主要污染污染源分两类:1.颗粒物产生于基本表面处理时产生粉尘、喷涂法作业过程喷漆雾、腻子层、中间涂层打磨粉尘;2.VOCs有机废气产生于调漆过程溶剂挥发、施涂/涂覆过程溶剂挥发、喷涂作业过喷漆雾带离、干燥固化过程溶剂挥发、干燥固化反应产生的新挥发物。
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