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voc废气处理设备10年经验

工厂废气处理设备可率解决苯、二甲苯、非甲烷总烃等有机废气,也可率解决*、氨等恶臭味汽体,是运用普遍、清洁实际效果合乎环境保护规定的废气设备,作为阅历丰富的低温等离子废气处理设备厂家,大家的机器设备早已取得成功的运用于塑胶、硫化橡胶、喷涂、食品工业等许多 制造行业。 工厂废气处理设备 各种工业废气处理设备都有其合适的处理浓度,但浓度过高,处理效果不完全,不能达到排放标准。过低,将不可避免地造成不必要的运营成本。因此,买方根据废气浓度选择工业废气处理设备后,废气排放浓度应尽可能控制在设备的处理浓度范围内。废气种类:废气种类很多,每种废气的浓度都不一样。在高浓度的情况下,如果工业废气处理设备不符合浓度范围的要求,工业废气处理设备的运行将处于异常状态。有些有机废气是酸性的,如氯、硫等元素,会对设备造成一定的腐蚀,从而影响其正常运行。



光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。




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催化燃烧废气处理设备系统特点:   1、催化燃烧采用RCO工艺净化有机废气,可同时去除多种有机污染物,具有工艺简单、设备紧凑、运行可靠等优点;   2、催化燃烧设备具有净化率高,一般均可达95%以上;   3、催化燃烧设备具有运行费用低的优点,其热回收率一般可达95%以上;   4、整个过程无废水产生,净化过程不产生二次污染;   5、催化燃烧RCO净化设备可与烘箱配套使用,净化后的气体直接回用到烘箱加热设备,达到节能减排的目的;   6、催化燃烧设有5道装置,杜绝事故发生;   7、催化燃烧蓄热系统采用加热系统分段工作,自动跟踪温度并内置蓄热装置,节能省电;




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