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因此如何合理的设置铁芯以及如何合理的设计铁芯结构成为提高真空灭弧室可靠性的关键。针对杯状纵磁真空灭弧室触头,本文设计了两种不同结构的铁芯,一种是结构为环状的铁芯,为了减小涡流的影响,在环形铁芯上开一个间隙为1 mm 的断口;另一种结构为圆周方向布置的柱状铁芯,柱状铁芯相互不接触,因此可以更好的减小涡流的影响。采用有限元分析方法对比分析了两种不同结构铁
芯对纵向磁场和剩余磁场以及磁场滞后时间的影响。  触头结构模型  文中仿真所采用的两种不同铁芯结构的触头模型如图1 所示,触头杯均有4 个杯指,为了防止触头片上产生涡流,对应的在触头片上开有四个周向均匀布置的径向直槽。触头外径尺寸为78 mm,壁厚11 mm,弧柱直径与触头外径尺寸相同,柱状铁芯12 个,仿真模型中触头开距为10 mm,杯座材料为无氧铜,支撑盘材料为不锈钢,触头片材触头在高真空中分离时,其电弧表现形式与外观特性都与在空气中的情形有较大区别。真空断路器的击穿机理目前主要有场致发射、粒撞击和粒子交换
三种假说,在短间隙真空断路器的相关研究中,通常由场致发射效应占主导。在触头断开时刻,整个阴极表面会产生金属蒸气。理论上是由于触头分开瞬间,电流集中在触头表面某点上,导致金属桥熔化且部分金属原子发生电离。随着触头开距的增大,场致发射与间隙击穿增强,触头表面金属凸点不断溶化并向触头间隙补充金属粒子。此时阴极斑点会在阴极表面形成,并有更多的高能等离子体形成并扩散至间隙内。电弧引燃后,充满等离子体的电极间
隙变成良好导体,同时阳极开始向电弧提供粒子。在纵向磁场作用下,电弧等离子体由触头中心向周围扩散,此过程会维持一段时间。对于交流真空断路器而言,电流到达峰值后会逐渐减小,两触头向等离子体提供的粒子同样减少,此时电极间隙内主要为弧后残存粒子,伴随着触头完全断开,残存粒子逐渐扩散至消失,断路器完成开断。  真空电弧等离子体的产生过程,可以表现为触头开距增大、触头表面金属蒸发,伴随场致发射效应和金
属电离,由于两极电子、金属离子的不断补充,终形成电弧。在电弧等离子体的研究方面,王景、武建文等运用连续光谱法分析了电子温度和电子密度,并讨论了中频情况下,电弧过渡及扩散两种形态。胡上茂、姚学玲等利用RC 阻容式电荷收集器,对初始等离子体的触发特性进行了研究。舒胜文、黄道春等通过对真空断路器开断过程的再研究,提出数值方针结合实验的方法,给出开断过程不同阶段所需的数值仿真方法及关注点。赵子玉等通过C
CD 摄像技术,分析了真空电弧的重燃及抑制措施




ZWM9-12型永磁真空断路器厂家

灭弧不用检修的优点,在配电网中应用较为普及,发展简史1893年,美国的里顿豪斯提出了结构简单的真空灭弧室,并获得了设计 ,1920年瑞典佛加公司次制成了真空开关,1926年等公布的研究成果也显示了在真空中分断电流的可能性。
  但因分断能力小,又受到真空技术和真空材料发展水平的限制,尚不能投入实际使用,随着真空技术的发展,50年代美国才制成批适用于切断电容器组等特殊要求的真空开关,分断电流尚停在4千安的水平,由于真空材料冶炼技术上的进步和真空开关触头结构研究上所取得的突破。
  1961年,开始生产15千伏,分断电流为12.5千安的真空断路器,1966年试制成15千伏,26千安和31.5千安的真空断路器,从而使真空断路器进入了高电压,大容量的电力系统,80年代中期,真空断路器的分断能力已达100千安。
  从1958年开始研制真空开关,1960年西安交通大学和西安开关整流器厂共同研制成批6.7千伏,分断能力为600安的真空开关;随后又制成10千伏,分断能力为1.5千安的三相真空开关,1969年华光电子管厂和西安高压电器研究所制成了10千伏。
  2千安单相快速真空开关,70年代以后,已能独立研制和生产各种规格的真空开关,真空断路器通常可分多个电压等级,低压型一般用于防爆电气使用,像煤矿等等,2真空断路器的特点①触头开距小,10KV真空断路器的触头开距只有10mm左右。
  操作机构的操作功就小,机械部分行程小,其机械寿命就长,②燃弧时间短,且与开关电流大小无关,一般只有半周波,③熄弧后触头间隙介质恢复速度快,对开断近区故障性能较好,④由于疏通在开断电流时磨损量较小,所以触头的电气寿命长。
  满容量开断达30-50次,额定电流开断达5000次以上,噪音小适于频繁操作,⑤体积小,重量轻,⑥适用于开断容性负荷电流,由于其优点很多,所以广泛应用于变电站中,目前型号主要有:ZN12-10型,ZN28A-10型。
  ZN65A-12型,ZN12A-12型,VS1型,ZN30型等,具体介绍真空断路器技术标准真空断路器在我国近十年来得到了蓬勃的发展,产品从过去的ZN1-ZN5几个品种发展到数十多个型号,品种,额定电流达到5000A。


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