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等离子环保废气处理设备-脉冲打磨柜用好材做好产品

更新时间:2024-12-26 01:27:36 浏览次数:6    公司名称:邹平市 宏程净化设备 有限公司

以下是:等离子环保废气处理设备-脉冲打磨柜用好材做好产品的产品参数
产品参数
产品价格85
发货期限电议
供货总量电议
运费说明电议
材质碳钢不锈钢
产地山东邹平
规格根据客户要求定制
型号环保型
颜色银色
品牌山东宏程
以下是:等离子环保废气处理设备-脉冲打磨柜用好材做好产品的图文视频
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以下是:等离子环保废气处理设备-脉冲打磨柜用好材做好产品的图文介绍



等离子体反应区富含极高的物质,如高能电子、离子、自由基和激发态分子等,废气中的污染物质可与这些具有较高能量的物质发生反应,使污染物质在极短的时间内发生分解,并发生后续的各种反应以达到讲解污染物的目的。与传统的电晕放电形势产生的低温等离子技术相比较,等离子体技术放电密度是电晕放电的1500倍,这就是传统低温等离子体技术治理工业废气以失败而告终的原因。




多年来坚持守约、保质、薄利、重义的经营理念,宏程净化设备 有限公司与广大客商建立了牢固的合作关系,受到了广大客户的赞同。公司让利于 河南南阳uv光氧催化环保废气处理设备客户,装车免费,节假日照常发货,欢迎广大客户朋友光临惠顾!



低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态,当外加电压达到气体的放电电压时,气体被击穿,产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高,但重粒子温度很低,整个体系呈现低温状态,所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用,使污染物分子在极短的时间内发生分解,并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。(注:低温等离子体相对于高温等离子体而言,属于常温运行。)

技术工艺:

    异味气体从气体收集系统收集后,一部分废气需要进行预处理,除水后进入等离子体反应区,在高能电子的作用下,使异味分子受激发,带电粒子或分子间的化学键被打断,同时空气中的水和氧气在高能电子轰击下也会产生OH自由基、活性氧等强氧化性物质,这些强氧化性物质也会与异味分子反应,使其分解,从而促进异味 。净化后的气体经排气筒高空排放




在国内根据低温等离子体工业废气处理技术研发出相应的标准化废气治理设备,归于根本是利用一些化学反应的化学键拆分,得到无害的气体分子,从而达到环保排放烟气的标准要求。具体是利用所产生的高能电子、自由基等活性粒子、电离、裂解工业废气中的各组成份,使之发生分解,氧化等一些列复杂的化学反应,再经过多级净化,从而各种污染源排放的异味、臭味污染物,使有毒有害气体达到低毒化、化,保护人类生存环境。

低温等离子体技术应用范围广,气体的流速和浓度对于气态污染物治理技术应用来说是两个非常重要的因素。生物过滤和燃烧技术能应用于较高浓度范围,但却受气体的流速所限。而低温等离子体技术对气体的流速和浓度都有一个很宽的应用范围,低温等离子设备其应用广泛不言而喻。等离子体技术工艺简单。吸附法要考虑吸附剂的定期更换,脱附时还有可能造成二次污染;http://www.wzyihong.com燃烧法需要很高的操作温度;生物法要严格控制pH值、温度和湿度等条件,以适合生物的生长。而低温等离子体技术则较好的克服了以上技术的不足,反应条件为常温常压,反应器结构简单,低温等离子设备并可同时混合污染物(有些情况还具有协同作用),不会产生二次污染等。就经济可行性来说,低温等离子体反




低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态,由电子、离子、自由基和中性粒子组成。低温等离子体产品利用螺旋波低温冷光技术产生的高能离子束和电子束形成的低温等离子体,以每秒800万次-5000万次的速度反复轰击异味气体分子,去、电离、裂解废气中的各种成分,从而发生氧化等一系列的化学反应。等离子处理废气的原理如下:

1. 等离子通电后会形成一个1.5万伏的高压电场,废气在进入的时候被电离,分子键断裂,废气分子被分解成高能电子。

2. 氧气O2被电离成O- (游离态的氧原子),因游离氧所携正负电子不平衡,所以需要与氧分子结合,进而产生臭氧O3。

3. 废气电子在O3 的作用下,被氧化成CO2 和H2O

 低温等离子

 

特点优势:

1.应用范围广:可适用于大部分有机废气和H2S、NH4等恶臭气体。

2.效率高:实际处理效率可达80%以上。

3.能耗低:10000m3/h风量只需1.3kw。

4.运行成本低:无耗材,只需定期清理电场即可。

5.使用寿命长:等离子电场为不锈钢材质,使用寿命10年以上。

6.安装维护简单:只需要将设备连接管道即可,全自动运行免维护。

7.环保:设备运行无噪音,不产生二次污染


注意事项:

1、工况恶劣时.前端必须安装预处理设备。

2、设备后端需预留氧化反应管道。

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